1、真空鍍膜行業(yè)技術水平及特點
真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環(huán)境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態(tài)或等離子態(tài),并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或有機材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。
利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后,可使材料表面獲得新的復合性能并實現(xiàn)新型的工程應用,賦予材料表面新的機械功能、裝飾功能和聲、電、光、磁及其轉換等特殊功能(例如防輻射、增減透光、導電或絕緣、導磁、抗氧化、耐磨損耐高溫耐腐蝕等),從而改善產品原有性能、提高產品質量、延長產品壽命等。和傳統(tǒng)鍍膜方法(如電鍍、化學鍍膜)相比,真空鍍膜使用的鍍膜材料種類更豐富、膜層厚度更易控制、附著力更強、適用范圍更廣,在操作過程中更加節(jié)能、安全、環(huán)保。
真空鍍膜技術與傳統(tǒng)的電鍍、熱浸鍍技術相比較,主要有三大優(yōu)勢:一是不影響被鍍材料的質量,在加熱鍍膜材料時,不需要過高溫度,因此不會出現(xiàn)被鍍材料在幾何尺寸上發(fā)生變形或降低材質性能等現(xiàn)象;二是可以較大范圍內自由選擇鍍膜材料,更容易在組成和構造上對膜材進行控制;三是鍍膜過程與電鍍、熱浸鍍技術相比,對周圍環(huán)境影響更小。
三類真空鍍膜技術介紹及如下:
1、真空蒸發(fā)鍍膜:加熱膜材使表面組分以原子團或分子團形式被蒸發(fā)出來,并沉降在基片表面形成薄膜
2、真空磁控濺射鍍膜:用高能等離子體轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜
3、真空離子鍍膜:在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(膜材)部分離化,在工作氣體離子或被蒸發(fā)物質的離子轟擊作用下,把蒸發(fā)物或其反應物沉積在被鍍基片表面
真空鍍膜行業(yè)發(fā)展態(tài)勢
真空鍍膜設備除應用在消費電子、集成電路、光學光電子元器件等領域外,還可以應用于醫(yī)療器械、航空航天、太陽能、塑料、包裝、紡織、機械、防偽、建筑等領域。為加快發(fā)展先進制造業(yè),提高重大裝備國產化水平,國家一直積極鼓勵發(fā)展高端、精密、專用精密制造技術的開發(fā)和運用,先后發(fā)布了《新材料產業(yè)發(fā)展指南》《關于實施制造業(yè)升級改造重大工程包通知》《國民經濟和社會發(fā)展第十四個五年規(guī)劃和 2035 年遠景目標綱要》等政策法規(guī)。
隨著國家對環(huán)境保護的日益重視,真空鍍膜的高性價比、低污染的特點將成為表面處理業(yè)內主流技術。一方面,表面處理技術發(fā)展趨勢是向低耗能無污染的技術方向發(fā)展,真空鍍膜技術依附其環(huán)保節(jié)能、安全可控的特性,配合國家可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略,市場覆蓋率迅速擴大。
另一方面,表面處理技術對于被處理對象的表面進行各種改性改造,增強了被處理對象表面的耐磨性、耐腐蝕性、光滑度等屬性,使被處理對象在使用過程中大大減少了損耗和浪費,起到了節(jié)能環(huán)保作用,符合國家在產業(yè)政策和產業(yè)規(guī)劃上的導向。在此背景下,掌握了低耗能無污染先進技術的國內企業(yè),能夠搶占市場先機。
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